光(guāng)氧催化除(chú)臭系統利(lì)用排風設(shè)備輸(shū)入(rù)到本淨化設(shè)備後,淨化(huà)設備(bèi)運用(yòng) uv紫外線光束及(jí)臭(chòu)氧對惡(è)臭氣(qì)體進行協(xié)同(tóng)分解氧化反(fǎn)應,使惡臭氣體物質其降解轉(zhuǎn)化成低(dī)分(fèn)子化(huà)合物(wù)、水和二氧化(huà)碳(tàn),再通過排(pái)風管(guǎn)道排出室(shì)外。本産品利用 的 高臭氧(yǎng)uv紫外(wài)線光(guāng)束(shù)照(zhào)射惡(è)臭氣體,改變惡(è)臭氣體如:氨、胺(àn)、硫化(huà)氫、甲硫氫、甲硫(liú)醇(chún)、甲硫醚(mí)、二甲二硫(liú)、二硫化碳和苯乙烯(xī),硫化物h2s、voc類(lèi),苯(běn)、甲苯、二(èr)甲苯(běn)的分(fèn)子鍊結(jié)構,使或(huò)無機(jī)高(gāo)分子惡(è)臭化合物分子(zǐ)鍊,在 紫外線(xiàn)光(guāng)束照射下,降解(jiě)轉變成低分子(zǐ)化合(hé)物,如co2、h2o等。利用 uv光束(shù)裂解惡(è)臭氣(qì)體中(zhōng)的分子鍵(jiàn),破壞(huài)的核(hé)酸(dna),再(zài)通過臭氧進行(háng)氧化(huà)反應(yīng),達(dá)到(dào)脫臭(chòu)及殺(shā)滅的(de)目的。
光(guāng)氧(yǎng)催化除臭(chòu)系統(tǒng)的特(tè)點(diǎn):
1、無(wú)需添加任(rèn)何物(wù)質:隻需要(yào)設置相應(yīng)的排風管道和(hé)排風(fēng)動(dòng)力,使惡(è)臭/工業(yè)廢(fèi)氣通過本(běn)設(shè)備(bèi)進行(háng)脫(tuō)臭分解淨化(huà),無需添加任何物質參與(yǔ)化學(xué)反應(yīng)。
2、适應性強(qiáng):工業(yè)廢氣(qì)(工業廢氣)uv 光(guāng)解廢氣(qì)淨化(huà)設備可(kě)适應,大氣量,不同工業廢氣物質的脫(tuō)臭、淨化處理(lǐ),可每(měi)天24小時(shí)連續工(gōng)作,運行(háng)穩定。
3、運(yùn)行(háng)成本低:設備無任何(hé)機械動作(zuò),無噪音(yīn),無(wú)需專人管(guǎn)理和(hé)日(rì)常(cháng)維護,隻需做(zuò)定期檢(jiǎn)查,本設備(bèi)能耗低,(每處(chù)理1000立方米/小時,僅(jǐn)耗電(diàn)約0.2度),設備風阻(zǔ)<50pa,可節約大(dà)量排(pái)風動力能耗。
4、無(wú)需預(yù)處理:惡臭氣體無需進行(háng)的預處理,如加(jiā)溫,加濕等,設備工作環境(jìng)溫度在-30℃-95℃之(zhī)間(jiān),濕(shī)度在30%-,ph值在(zài)2-13之間均可(kě)正常工作。
5、設(shè)備(bèi)占地面積(jī)小,自重輕:适合于布(bù)置緊(jǐn)湊、場(chǎng)地狹(xiá)小等條件,設備(bèi)占地面(miàn)積<1平方(fāng)米/處(chù)理10000m3/h風(fēng)量。
6、 材料制造:、、蝕(shí),設備(bèi)性能(néng) 穩定(dìng),采用不鏽鋼材質,設(shè)備使(shǐ)用壽命在(zài)15年以(yǐ)上。
光(guāng)氧催(cuī)化除臭系統 除(chú)惡臭:能 去(qù)除揮(huī)發性物(voc)、無機物(wù)、硫化氫、氨(ān)氣(qì)、硫(liú)醇類(lèi)等主要污(wū)染物,以及(jí)各種(zhǒng)惡臭味(wèi),脫臭達以上,脫臭(chòu)效果(guǒ)超過 1993年頒布的(de)惡臭污染(rǎn)物排(pái)放标(biāo)準(zhǔn)(gb14554-93)。
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